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如何改善真空镀膜设备膜层的结合力?

2020-08-18

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       如何改善真空镀膜设备镀膜的结合力,是很多镀膜制造厂家都想了解的问题,镀膜结合力涉及到后期真空镀膜膜层产生优良产品的概率,因此镀膜制造厂家都各位的重视,下面汇成真空小编为大家详细介绍一下,如何改善真空镀膜设备膜层的结合力?


真空镀膜设备



      提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%),接近电弧的离化率。真空镀膜机通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量,从而改善膜层的结合力和致密性。

      提高轰击清洗的质量,特别是可以实现对非导体的镀前清洗,镀膜时辅助沉积,提高沉积粒子的能量,改善膜层的结合力。真空镀膜设备薄膜纳米沉积技术,真空镀膜机薄膜沉积是涂层结构未来的发展方向,通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜,实现涂层性能的极大增强。推荐文章:盘点玻璃手机镜片的制作工艺.

      真空镀膜设备薄膜单一的颜色PVD涂层已满足不了市场的需求,进而提出双色间镀的要求,这是装饰涂层的发展方向,双色间镀的质量成为代表PVD加工企业的生产技术水平标志。减少工件的打火,增加沉积离子能量,增强膜基结合力,提高沉积速率。 真空镀膜设备薄膜通过低温冷凝效应,迅速捕集真空系统内的残余气体,特别是水蒸汽,大大缩短抽真空的时间,获得洁净的真空环境。薄膜绿色环保,大大降低能耗,真空系统抽速稳定,镀膜工艺稳定可靠,重现性好。