镀制功能性膜层，有很两种方法可以实现，CVD法、PVD法，今天汇成真空小编为大家介绍，真空镀膜机镀功能性膜层方法，采用PVD方镀制，希望能帮助到大家：
PVD法是利用蒸发或溅射等物理形式把材料从靶源移走，然后通过真空或半真空空间使这些携带能量的蒸气离子沉积到基片或零件表面以形成膜层，通过气相反应过程，使蒸发或溅射出的金属原子发生气相反应，从而在刀具表面沉积出所要求的化合物。PVD涂层能涂氮化钛、碳氮化钛、铝钛氮化合物，以及各种难熔金属的碳化物和氮化物。
目前，常用的PvD方法有低压电子束蒸发(LVEE)法、阴极电子弧沉积法(CAD)、晶体管高压电子束蒸发法( THVEE)、非平衡磁控溅射法(UMS)、离子束协助沉积法(IAD)和动力学离子束混合法(DIM)。其主要差别在于，沉积材料的汽化方法以及产生等离子体的方法不同，而使得成膜速度和膜层质量存在差异。
PVD技术主要应用于整体硬质合金刀具和高速工具钢刀具的表面处理，已普遍应用于硬质合金钻头、铣刀、铰刀、丝锥、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。
和CVD法比较，PVD法有以下优点：
涂层温度(300~500℃C)低于高速工具钢回火温度，故不会损害高速工具钢刀具的硬度和尺寸精度，涂层后不再需要热处理。涂层有效厚度只有几微米，故可保证刀具原有的精度，适于涂覆高精度刀具。涂层的纯度高，致密性好，涂层和基体的结合牢固，涂层性能不受基体材质影响。涂层均匀，切削刃和圆弧处无增厚或倒圆现象，故复杂刀具也能获得均匀涂层。不会产生脱碳相，也无CVD法因氯的浸蚀和氢脆变形所引起的涂层易脆裂的情况，涂层刀片强度较高。工作过程干净，无污染，无公害。
目前，真空镀膜机PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度，涂层成分也由单一涂层发展到了TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、 TIAIN、 TiAICN、TiN-AIN、CN等多种多元复合涂层，且由于纳米级涂层的出现，使得PVD涂层刀具质量又有了新的突破，这种薄膜涂层不仅结合强度高、硬度接近CBN、抗氧化性能好,并可有效地控制精密刀具刃口形状及精度，在进行高精度加工时，其加工精度毫不逊色于未涂层刀具。
