真空镀膜机大家都不陌生，也大概都知道它的用途，但是真空镀膜机深入一些的相关知识，有多少人知道呢。比如真空镀膜机类型，以及应用领域，薄膜的均匀性等。对于真空镀膜机行业接触较少的人员来说，应该是对这方面了解甚少，那么下面汇成真空小编为大家详细介绍一下真空镀膜机的类型和薄膜的均匀性概念。
真空镀膜机有很多种类型，应用的行业不一样，类型也是不一样的，如：电子产品行业的有光学真空镀膜机，卷绕行业的有卷绕真空镀膜机，装饰行业的有装饰真空镀膜机，汽车行业有汽车真空镀膜机等，应用行业不一样真空镀膜机的大小、款式各不相同。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
那么
真空镀膜机薄膜均匀性概念是怎样的呢？真空镀膜机薄膜均匀性有三种：
第一种：厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
第二种：化学组分上的均匀性，就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。
第三种：晶格有序度的均匀性，这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。
