镀铬是赋予产品高机械性能的理想镀膜方式，同时具有吸引人的金属外观和美学冲击力，从而增加了产品的附加值。与传统电镀相比，UV-PVD组合更安全，更经济，更环保，传统电镀因此逐渐被淘汰。

采用真空溅射技术，彻底消除有害排放物，发展了环保镀铬代替电镀处理。流程周期非常快，其卓越的性能转化为高效、经济的绿色生产。UV-PVD镀铬工艺是环保的，它在常温下工作，没有水消耗和化学排放，通过减少生产时间，重复周期和缺陷最小化，保证了高成本效益的加工周期，低成本消耗和高生产率。

除铬涂层外，还可以镀银，在色彩和效果方面提供非常广阔的设计选择和设计色彩的多样性。

      类金刚石涂层经常适用于汽车引擎以减少发动机的摩擦，黑色的色彩使DLC涂层在作为装饰涂层(如:手表)上受到广泛欢迎，并且由于其较低摩擦和无粘连系数，使其很好的运用在工具涂层。DLC涂层技术非常适用于机械的加工和铸造/锻造，以及铝及塑料注塑模具的涂层。

类金刚石(DLC)涂层技术：

      不同类型的类金刚石涂层，具有不同的生产技术。DLC涂层适用于极端磨损情况和高相对速度，甚至是在无润滑运转的条件下使用，具有卓越的耐磨蚀性、抗摩擦氧化性和附着性（防磨损），可承受在正常条件下会立刻导致磨损和冷焊的表面压力，将摩擦损失降至最小，良好的耐腐蚀性使基体免受破坏性攻击。

一次走帶完成PET/PP双面镀膜的PVD卷绕镀膜设备，高致密、附着力强的金属膜，高精度卷绕系统，低张力控制，基材特殊展平效果，实现高产能批量化生产。

超薄复合铜箔PVD RTR镀膜设备：

实现在厚度3.0～4.5μm、幅宽600～1650mm的PET/PP塑料薄膜表面一次完成双面镀铜膜，“PVD铜-高分子支撑层-PVD铜”三明治结构，设备工艺走速0.5-30m/min。

超薄复合铝箔PVD RTR镀膜设备：

实现在厚度4.5～6.0μm、幅宽600～1700mm的PET/PP塑料薄膜表面双面镀铝膜，“PVD铝-高分子支撑层-PVD铝”三明治结构，设备工艺走速30-100m/min，攻克大规模快速蒸发沉积厚铝膜难关。

HCVAC将碳基涂层工艺和真空镀膜设备技术方面的长期经验应用于燃料电池的金属双极板。通过在涂层腔体中实施等离子体表面清洁和特殊结合层,已经获得了在结合力、导电性和耐腐蚀性方面的良好结果。

公司主要给市场提供金属双极板涂层设备为主,可以根据客户需要提供涂层材料,包括石墨及贵金属。小批量实验生产设备和大批量生产的成本价值与工业路线非常一致。

HCVAC抗菌涂层结合了PVD涂层的强度、耐用性和美观，具有卓越抗菌性能，它的抗菌特性可抑制表面可能感染的病原体增殖，所有可能与人接触的日常物品都需要这类型的涂层。

得益于HCVAC开发的创新涂层工艺，抗菌涂层不仅能够完全抑制细菌的生长，还能消除它们，确保表面完全卫生。

通过精确实验室测试证明的这种抗菌效率是由于多层涂层复杂结构中的纳米嵌入引起的，该涂层通过阻断其营养并中断细胞分裂周期来破坏细菌细胞膜。

抗菌和抗病毒作用

由于涂层的物理特性，抗菌作用持续贯穿物体整个使用寿命，并随着时间的推移而改善。

得益于其抗病毒作用，这是一种完全低过敏性产品。此外，根据DM 3/21/1973测试，该涂层对人体接触是完全安全的。

抗菌颜色和基材

HCVAC抗菌涂层的抗菌特性与PVD涂层美学品质相结合：硬度、抗紫外线、高颜色稳定性和耐刮擦性。

抗菌涂层可应用于许多不同类型的基材：黑色金属和有色金属、ABS 和聚碳酸酯等聚合物（经过适当的预处理）。

实验室测试

HCVAC抗菌涂层的功效针对大肠杆菌（革兰氏阴性）和金黄色葡萄球菌（革兰氏阳性）菌株的细菌进行了测试，这两种细菌都属于对“接触感染”最大责任的流行细菌家族，在新生产的样品和已经使用了很长时间的产品上均取得优异的结果。

热障涂层是先进航空发动机和地面燃气轮机研制的关键技术，由隔热性能优良的陶瓷面层和起粘接作用的金属底层构成，可以避免高温燃气与金属基体直接接触，对基体形成有效保护，起到延长发动机工作寿命、提高燃烧效率的作用。

PS-PVD用快速热喷涂的方法实现了大面积、均匀化的物理气相沉积。通过改变等离子射流状态，PS-PVD还可以实现多相复合涂层的沉积，拓展了不同组织结构热障涂层的设计与制备。更为重要的是，PS-PVD的等离子射流具有良好的绕镀性，可以在外形复杂的工件表面实现非视线热障涂层沉积。

激光雷达广泛应用于无人驾驶及无人机等领域，激光雷达系统包括一个单束窄带激光器和一个接受器，可见窄带滤光片在激光雷达中有着举足轻重的位置，在未来的应用将更加广泛。

激光雷达是以发射光束探测目标的位置、速度等特征量的雷达系统。

相当于我们的眼睛，具有很强大复杂的信息感知和处理能力。

激发光雷达在很多年前就被广泛应用于飞机避障、侦查成像、导弹制导等领域，应用场景极为丰富。

镜头专用IR-CUT滤光片是指半导体感光元件（CCD或CMOS）前面可滤除红外光，以使镜头图像再现色彩与实际色彩相一致。最常用的是650nm截止型滤光片。

▶   UV/IR截止滤光片用于去除不需要的紫外线和红外线！

要点：
● 用来防止杂散光造成的失灵和紫外线造成的老化。
● 用于除去CMOS/CCD感应器的近红外线、云纹
● 用于防止杂散光引起的失误以及紫外线造成的劣化
● 低颗粒，高透光率，雾度降低是很重要的。

目前AR膜主要应用于望远镜、眼镜、数字相机镜头、LCD投影系统、光学窗口、保护镜、笔记本、电脑、手机、电视、眼镜、触摸屏等。

从结构上分，AR膜也可以分为单层减反膜和多层减反膜：

单层减反膜为了减小表面反射光，最简单的途径是在基材表面上镀一层低折射率的薄膜。

多层减反膜在薄膜上镀两层以上反射材料的称为多层AR膜，多层比单层有更好的性能。

      AF/AS镀膜，即防污膜（AS），防指纹膜（AF膜），主要是通过真空镀膜的技术将有机氟化物材料沉积到各类玻璃或有机玻璃PC、PMMA、PET等基材上，使基材表面具有防水，防油，防刮，防指纹，防污染等功能。

      疏水涂层是一种新的进步，可以添加到我们的镀膜玻璃中，从而形成防水光学器件，疏水涂层与玻璃结合，形成防污，防灰尘，油脂和液体的屏障，涂层是非酸性的，它允许使用抹布清洁玻璃，而无需使用清洁液，这种防水玻璃涂层非常适合触摸屏。

      广泛应用于数码产品，手表，五金等玻璃，金属，塑料，陶瓷材质的面板，零件表面，及其装饰和功能薄膜上加镀AF，AS涂层，提高表面硬度，光滑度，耐磨性，耐化学性和易清洁性。

AS/AF膜测试标准：
■   初始接触角范围为 115±5°；
■   钢丝绒耐摩擦测试标准：用 0000#钢丝绒，面积为 10*10mm,行程 40 次/分，负载1Kg，5000 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
■   橡皮擦测试标准： 直径 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，负载1Kg， 2500 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
备注：测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃，表面光洁。

通过磁控溅射方式镀制DLC硬膜，莫式硬度大于8，铅笔硬度大于9H，薄膜硬度接近于蓝宝石玻璃，薄膜透过率大于99.4%，钢丝绒耐磨（@1KG 10mm×10mm>8000次）无划痕，橡皮擦+酒精耐磨>5000次无损伤，可与AF有效良好结合。

AR 膜（基材玻璃透过率＞91.5%）：
■  420-680nm波段，单面平均透过率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■  双面平均透过率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；

AS/AF膜测试标准：
■   初始接触角范围为 115±5°；
■   钢丝绒耐摩擦测试标准：用 0000#钢丝绒，面积为 10*10mm,行程 40 次/分，负载1Kg，5000 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
■   橡皮擦测试标准： 直径 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，负载1Kg， 2500 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
备注：测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃，表面光洁。

汇成真空可以通过在末端，中跨度或窗口上生产单个或多层对称的金属涂层，将光纤与钛/铂/金一起金属化，用于密封的光电封装。 我们的专家还可以在圆柱杆或管组件上创建径向对称的物质堆栈。

功能和特点：

- 低温沉积避免了塑料对光纤的损坏。

- 涂层在整个光纤周围具有良好的均匀性，以进行准确的光纤对齐。

- 在涂层之前由清洁前一步产生的出色粘附强度。

- 负载锁定的系统允许涂层外套和连接的组件。

- 重新涂层光纤布拉格光栅。

- 抛光末端的反射和受保护的镜涂层。

ICP电感耦合等离子体

相对于传统磁控溅射，ICP溅射光学镀膜，采用先金属化溅射，再通过离化反应气体与金属薄膜反应化合成介质薄膜，其工艺腔体在一个PM（维护保养）周期内始终保持真空，提供一个稳定可靠的镀膜环境，而且生产效率更高。 适用于在玻璃，塑料等基材的平面或曲面镀制AR，超硬AR，BBAR膜层，镜面，NCVM，滤光片等光学膜的镀膜，还可以实现AF/AS膜的镀制。 蒸发/溅射工艺制程中基材清洁和辅助沉积采用ICP源：

电子枪辅助：可通多种气体，除了做辅助外，有些应用在镀完后可做一层DLC进行保护；

PVD辅助：主要可用于补氧、补氮一类的应用，适合做氧化物和氮化物。在使用金属靶高速溅射的情况下使用ICP源补氧或氮进行氧化或氮化，以实现通过磁控溅射的手段快速制备高精密光学薄膜。

ICP的优势：

提高等离子密度，尤其是惰性反应气体的离化率

高能粒子轰击，提高薄膜致密度

提高成膜质量，可避免高温工艺

改变薄膜晶体结构从而改变薄膜化学或电学性能

CCP电容耦合等离子体

电容耦合等离子体的工作原理与电感耦合等离子体不同。电容耦合方式是由接地的放电室(由复合系数很小的材料如石英做成)和引入的驱动电极作为耦合元件。驱动电极上镀有溅射产额较低的陶瓷材料以减少离子的对阴极材料的溅射。当与电源接通后,在放电室和驱动电极之间产生高频电场,自由电子在此作用下做上下往复运动,并激发放电。由于电子的自由程远大于放电室的尺寸,因此主要靠它们从管壁上打出的二次电子而获得倍增,后者成为这种放电的维持者,而由气体电离所产生的二次电子将起次要作用。

RF 离子源
为反应性工艺（例如高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积）提供宽而均匀的离子束源。
在惰性和氧化环境中均能实现可靠一致的操作。
稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性。
非常适合于负载锁定生产工艺。
无极放电，寿命长，工作长时间稳定。
工作高度达1米。
离子能量及离子束流密度可以精确控制且变化范围大。

霍尔离子源
专为真空镀膜制程提供高射束电流，从而提高制程均匀性并防止基材受损，实现表面预清洁、辅助沉积及选择性蚀刻。
对需要高电流、低能量离子的应用非常有效。
高射束电流对于控制薄膜应力和化学计量特别有用。
离子能量发散，离子束发散，有较大均匀区。
离子能量低，离子束流密度较大。
结构简单，拆卸方便。

考夫曼离子源
离子能量，束密可精确控制，不受环境影响。
放气量小，污染较小。
工作温升低，可冷镀。

     独特的频率测量系统，提供稳定、高分辨率的速率和厚度测量，赋予监控过程卓越的可重复性。通过沉积控制器，可利用 QCM 传感器对沉积过程实现速率控制。汇成真空可按您的要求为您提供具有从最基本到最齐全功能的任何沉积控制器。

      即使在速率极低的情况下也可确保获得最高、最稳定的速率和厚度测量分辨率，通过自动测定沉积材料的比值，可提高厚度测量的精度，支持多个来源同时共沉积，USB 数据存储功能可存储屏幕截图、配方存储和数据记录。

      通过光学膜厚监控仪，您可以极其准确地控制沉积速度和厚度，能够达到几乎任何层数，安装轻松且可靠性极高，从而确保生产效率。汇成真空提供了一种拥有成本极低的仪表，为您带来前所未有的价值。无论您的控制需要属于生产还是研发领域，都能从光学膜厚监控仪中找到完美的解决方案。