光学真空镀膜机的光学镀膜技术发展日新月异，市场已经大量的投入使用，如：应用于LED，光学示波器，电子部件，数码产品等，已经受到了众多厂家的认可和喜爱。但是目前还是有很多人对光学真空镀膜机镀膜技术知识了解尚浅，对于光学真空镀膜机的镀膜原理更是知道的甚少，今天汇成小编为大家介绍光学镀膜机镀膜原理发展阶段：

      第一阶段是：第一代光学镀膜原理，抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面，形成一层非常硬的抗磨损膜，但由于其热胀系数与片基材料的不匹配，很容易脱膜和膜层脆裂，因此抗磨损效果不理想。
 
       第二阶段是：第二代光学镀膜原理，20世纪80年代以后，研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关，膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性，即有些材料的硬度较高，但变形较小，而有些材料硬度较低，但变形较大。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。
 
        第三阶段是：第三代光学镀膜原理，抗磨损膜技术是20世纪90年代以后发展起来的，主要是为了解决有机镜片镀上减反射膜层后的耐磨性问题。由于有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差别，新的理论认为在两者之间需要有一层抗磨损膜层，使镜片在受到砂砾磨擦时能起缓冲作用，并而不容易产生划痕。第三代抗磨损膜层材料的硬度介于减反射膜和镜片片基的硬度之间，其磨擦系数低且不易脆裂。
 
       第四阶段是：第四代光学镀膜原理，第四代的抗膜技术是采用了硅原子，例如法国依视路公司的帝镀斯(titus)加硬液中既含有有机基质，又含有包括硅元素的无机超微粒物，使抗磨损膜具备韧性的同时又提高了硬度。现代的镀抗磨损膜技术最主要的是采用浸泡法，即镜片经过多道清洗后，浸入加硬液中，一定时间后，以一定的速度提起。这一速度与加硬液的黏度有关，并对抗磨损膜层的厚度起决定作用。提起后在100 °c左右的烘箱中聚合4-5小时，镀层厚约3-5微米。
 
        对光学真空镀膜机镀膜技术的不太了解话，首先还是要先了解光学镀膜的原理，理解这一技术的发展由来，后面在涉足更深入的光学镀膜技术知识，后期也便于接触深入的知识能够更好的理解和掌握。