光学镀膜机工艺启用进行前应清洗真空材料，从工件或系统材料表面清除污染物；真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的，因为由污染物后期机器启用时造成的气体、蒸气源会使真空系统不能达到所要求的真空度，同时也会真空部件连接处的强度和密封性能。这样后期会导致镀膜机镀的膜层不达标。真空镀材料暴露在空气中最易受到污染，污染的来源有很多种，最初的污染通常是表面本身形成过程中的一部分。吸附现象、化学反应、浸析和干燥过程、机械处理以及扩散和离析过程都使各种成分的表面污染物增加。
那么比较常见的真空材料表面上的污染物具体有哪些类型呢：
一、水基类：操作时的手汗、吹气时的水汽、唾液等；
二、酸、碱、盐类物质：清洗时的残余物质、手汗、水中的矿物质等；
三、表面氧化物：材料长期放置在空气中或放置在潮湿空气中所形成的表面氧化物；
四、抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物等。
五：油脂：加工、装配、操作时沾染上的润滑剂、切削液、真空油脂等；
在
光学镀膜机使用镀膜材料镀膜前，对镀膜材料做简单的表面清洁可以延长镀膜机的使用寿命，是不可减少的必要环节。因为各种污染物不仅使真空系统不能获得所要求的真空度，还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。前期到位的清洗工作可以减少许多麻烦，避免许多小问题的发生，对工作效率、光学镀膜机镀膜质量都具有十分积极的作用。可大大提高真空系统中所有器壁和其它组件表面在各工作条件下的工作稳定性，清洗环节直接决定着
