真空
镀膜机使用越来越广泛，也被大众所认可，在生活中也启到了，不可或缺的一部分。那么真空镀膜前期，和后期镀膜步骤是怎样的呢，以及膜的均匀性如何？
前处理工艺:褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装 。镀膜工艺:抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉。后处理工艺清洗：确保镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能保证镀膜质量；抽真空：将真空室内的残余气体抽走。加热烘烤：炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放。压升率测试：测试炉体的漏气率和放气率。轰击清洗：去除工件表面的杂志，露出新鲜表面。镀膜：沉积膜层。冷却：避免工件氧化变色
厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空
镀膜机镀膜的技术含量所在。晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。
