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磁控溅射真空镀膜机广泛应用于家电电器、钟表、灯具、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表、塑料、玻璃、陶瓷、磁砖等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。所谓“溅射”就是用荷能粒子（通常用气体正离子）轰击物体，从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象,早在1982年Grove在实验室中就发现了这种现象。磁控溅射靶采用静止电磁场，磁场为曲线形，均匀电场和对数电场则分别用于平面靶和同轴圆柱靶。电子在电场作用下，加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,若电子具有足够的能量（约为30ev）时，则电离出Ar+并产生电子,电子飞向基片，Ar+在电场作用下，加速飞向阴极（溅射靶）并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。
磁控溅射真空镀膜机磁控溅射方式一般分为直流溅射、射频溅射、脉冲溅射、中频溅射，这四种溅射方式，各有各的优势！
那么磁控溅射真空镀膜机有以下几大特点：
1、膜厚可控性和重复性好,能够可靠的镀制欲定厚度的薄膜,并且，溅射镀膜可以在较大的表面上获得厚度均匀的膜层；
2、薄膜与基片的附着力强,并且部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原子相互溶合的伪扩散层；
3、可以制备特殊材料的薄膜，可以制膜层可以使用不同的材料同时溅射制备混合膜、化合膜，还可溅射成TiN仿金膜；
4、膜层纯度高，溅射膜层中不会混入坩锅加热器材料的成份。
磁控溅射真空镀膜机磁控溅射技术，是真空行业应用最广泛的镀膜技术，几乎无能不知，只要听到谈到镀膜技术，就会连想到磁控溅射技术
