真空镀膜设备磁控溅射镀膜是一种镀膜工艺，是被众多人熟知和市面应用最广泛的镀膜工艺，应用到光学行业，我们一般称之为光学磁控溅射镀膜设备，应用到装饰行业，一般我们称之为装饰真空镀膜设备，应用到卷绕行业，我们一般称之为卷绕真空镀膜设备。磁控溅射镀膜技术几乎在每个行业都有应用到，也被众多厂家所认可。
1.真镀膜设备磁控溅射原理：
真空镀膜设备磁控溅射法是一种较为常用的物理沉积法。磁控溅射是在真空室中，利用低压气体放电现象，使处于等离子状态下的离子轰击靶表面，并利用环状磁场控制辉光放电，使溅射出的粒子沉积在基材上。磁控溅射可以 方便地镀制高熔点物质的薄膜层，在很大面积上可以镀制均匀的膜层。
2.真空镀膜设备磁控溅射工艺流程：
在镀膜过程中，工艺的选择对薄膜的性能具有重要的影响，根据磁控溅射技术原理，结合设备的实际应用，对膜层的要求厚度范围为nm～μm数量级， 膜厚＜550nm，如对光有干涉作用，属于薄膜范畴，通常称光学薄膜技术。
3.真空镀膜设备磁控溅射镀膜的特点：溅射速率高，沉积速率高。溅射源的靶材具有极强的DIY选择组合。
真空镀膜设备磁控溅射阴极源是一个较为理想的可控源，沉积的膜层厚度与溅射源的功率或放电电流有较好的线性相关性，所以有较好的可控性， 能较好地实现批量生产产品的一致性和重复性。溅射源可较理想地置于真空室内长时间稳定工作，获得纯正的膜层，提高真空镀膜附着力确保膜层质量。
4.
真空镀膜设备磁控溅射高真空的获取：
真空是一种不存在任何物质的空间状态，是一种物理现象。在“真空” 中，声音因为没有介质而无法传递，但电磁波的传递却不受真空的影响。 事实上，在真空技术里，真空是针对气体而言，一般而言，高真空的获取是通过油扩散泵，油扩散泵能比机械泵获取更高的真空度。
