我们市面上好多产品都是通过磁控溅射方式进行镀膜的，磁控溅射技术是最常见的一种镀膜方式，也被众多真空镀膜设备厂家所青睐，那么真空镀膜设备磁控溅射镀膜膜层有哪些优点呢，下面汇成真空小编为大家详细介绍一下：
以溅射的方法进行真空镀膜，由于其镀膜方式的不同，同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的，虽然肉眼无法看出来，但确实拥有一定的优势。
膜厚稳定性好，由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系，电流越高，溅射效率越大，相同时间内，所镀膜层的厚度相对就大了，因为只要把电流数值控制好，需要镀多厚，或者多薄的膜层都可以了，当然这个厚度是在可允许的范围内，而且控制好电流，无论重复镀多少次，膜层厚度都不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。
膜层结合力强，在溅射过程中，有部分电子撞击到基材表面，激活表面原子，并且产生清洁的作用，而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级，带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时，有更多的能量可以传递到基材上，产生更多的热能，使被电子激活的原子加速运动，与部分镀材原子更早互相溶合到一起，其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜，加强了膜层与基材的结合力。
镀材范围广，由于
真空镀膜设备溅射镀膜是通过氩离子的高速轰击使镀材溅射出来的，不像蒸发镀膜由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材，而溅射镀膜几乎所有固体的物质都可以成为镀材。
由以上几点可以看出溅射真空镀膜确实比蒸发真空镀膜的效果好，其原理的不同决定了溅射制备的膜层厚度更稳定，结合力更强，镀材范围更广。
