目前市面上使用最多的镀膜技术分别的是蒸发镀膜，多弧离子镀膜，磁控溅射镀膜等，蒸发镀膜和磁控镀膜使用更普及，下面汇成真空小编为大家讲解一下真空镀膜机蒸发镀膜和磁控溅射镀膜区别：
蒸发加热目标表面成分自由基或离子形式被蒸发，并在衬底表面处理，成膜过程（散射-岛结构的迷走神经结构层状生长）形成薄膜。
蒸发镀膜成分均匀性不易保证，与特定的因素可以控制，但由于有限的原理，对非单组分涂料，
蒸发镀膜成分均匀性不好。 溅射可以简单地理解为电子或高能激光轰击目标的使用，使得表面成分的自由基或离子形式溅射，并沉积在衬底表面的成膜过程中，经验，最终形成薄膜。真空镀膜机的设备 溅射被分为许多类型，在溅射速率不同点和蒸发将成为一个主要的参数。
激光溅射PLD溅射涂层的成分均匀性，易于维护，和原子尺度的厚度均匀性较差（因为脉冲溅射），晶体取向（外）生长的控制也更一般的。
