多弧离子真空镀膜机是采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。
为了满足镀膜制和各种多层薄膜及复合化合物薄膜的要求，多功能多弧离子镀膜已成为目前研究发展的方向和热点。多弧离子镀膜采用孪生靶的先进技术，克服直流溅射固有的靶中毒、打火等不良弊病，使镀件的抗氧化耐蚀性能又有所提高和改善。
多弧离子镀膜的中心安装柱状多弧靶，靶材为钛或锆。它不但能保持多弧技术离化率高、沉积速率高的特点，还能有效地降低小平面多弧靶沉积过程中很难避免的“液滴”的缺陷，从而可以制备出低孔隙率的金属薄膜或化合特薄膜；在周边安装了孪生平面磁控靶，靶材为铝或硅；中外，在周边安装多个小平面多弧蒸发源，靶材为铬或镍，可以镀制多层金属膜和多层复合膜。
真空镀膜机复合式离子镀膜设备由于具有多种不同形式镀膜装置及不同材质的蒸发源及发射靶，它们既可以独立地分别工作又可以同时工作，既能制备纯金属膜又能制备金属化合物膜或复合材料膜；既能制备单层薄膜又能制备多层复合膜，用途极其广泛。
