真空镀膜机金属件PVD装饰膜镀制工艺,主要为在装饰产品设计。例如大型板材管材、家具装饰品上镀保护膜，真空镀膜设备镀膜后的产品能够展现出雍容华贵、光彩夺目等各种各样的美丽效果，并且膜层耐磨损不褪色。

       1.装饰件材料（底材）
       (1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。
       (2)玻璃、陶瓷。
       (3)塑料。ABS、PVC、PC、SHEET、尼龙、水晶等。
       (4)柔性材料。涤纶膜、PC、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。
       2.装饰膜种类
       (1)金属基材装饰膜层：TiN、ZrN、TiC、CrNx、TiCN、CrCN、Ti02、Al等。
       (2)玻璃、陶瓷装饰膜层：TiO2、Cr2O3、MgF2、ZnS等。
       (3)塑料基材装饰膜层：AI、Cu、Ni、Si02、Ti02、ITO、MgF2。
       (4)柔性材料装饰膜层：Al、lTO、Ti02、ZnS等。
      真空镀膜机用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空镀膜设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。
       (1)抽真空
       5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空镀膜设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。
       (2)轰击清洗
       真空度：通人氩气真空度保持在2～3Pa。轰击电压：800～1000V，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。
       (3)镀膜
       ①沉积锆底层
       真空度：通入氩气，真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压：450～500V，占空比20 %。镀膜时间：5～10min。
       ②镀ZrN膜
       真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶电压：400～550V，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200V，占空比80 %。镀膜时间：20～30min。
       由于真空镀膜机磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空镀膜机可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助镀膜源。