光学真空镀膜机镀制光学薄膜，都是采用物理气相沉积镀膜方式，其优点膜层厚度精准监控，膜层强度好，目前已被广泛采用.在PVD法中，根据膜料气化方式的不同，又分为热蒸发、溅射、离子镀及离子辅助镀技术.其中，光学薄膜主要采用热蒸发及离子辅助镀技术制造，溅射及离子镀技术用于光学薄膜制造的工艺是近几年才开始的.制备光学薄膜三种镀膜技术原理是怎样的呢？下面汇成真空小编为大家详细介绍一下：
第一种方式：热蒸发
光学薄膜器件主要采用真空环境下的热蒸发方法制造，此方法简单、经济、操作方便.尽管光学薄膜制备技术得到长足发展，但是真空热蒸发依然是最主要的沉积手段，当然热蒸发技术本身也随着科学技术的发展与时俱进.?在真空室中，加热蒸发容器中待形成膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体(称为衬底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法.
热蒸发的三种基本过程：由凝聚相转变为气相的相变过程；气化原子或分子在蒸发源与基片之间的运输，即这些粒子在环境气氛中的飞行过程；蒸发原子或分子在基片表面的沉积过程.
第二种方式：溅射
溅射指用高速正离子轰击膜料表面，通过动量传递，使其分子或原子获得足够的动能而从靶表面逸出(溅射),在被镀件表面凝聚成膜.
与蒸发镀膜相比，其优点是：膜层在基片上的附着力强，膜层纯度高，可同时溅射不同成分的合金膜或化合物；缺点是：需制备专用膜料靶，靶利用率低.
溅射的方式有三种：二级溅射、三级/四级溅射、射频溅射.
第三种方式：离子镀
离子镀兼有热蒸发的高成膜速率和溅射高能离子轰击获得致密膜层的双优效果，离子镀膜层附着力强、致密.离子镀常见类型：蒸发源和离化方式.
特点：
a、膜附着力强.这是由注入和溅射所致.
b、绕镀性好.原理上，电力线所到之处皆可镀上膜层，有利于面形复杂零件膜层的镀制.
c、膜层致密.溅射破坏了膜层柱状结构的形成.
d、成膜速率高.与热蒸发的成膜速率相当.
e、可在任何材料的工作上镀膜.绝缘体可施加高频电场.
光学真空镀膜机镀制不同的工件和不同的膜层，要求不一样，采用的技术各不相同，那么光学真空镀膜机配置也各不一样。
