光学薄膜是现代光学和光电系统中非常重要的组成环节，它已成为电子数码产品，光通信、光显示，军事领域高科技和工业领域的核心部件技术。光学真空镀膜机镀膜技术的突破往往成为加速现代光学和光电系统发展的主要原因，光学薄膜的技术迭代和创新，直接推动着高新技术进步。
随着行业的不断改革，光学系统对光学薄膜的精度和光谱控制能力要求越来越高，而消费类电子对光学薄膜的需求则强调大众的易用性和舒适性和大批量生产规模。光学镀膜技术取得了很大的进步，在过去的几十年里。从电子束热蒸发、舟皿蒸发和离子束辅助沉积技术到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来，这些沉积技术和设备的主要技术进步包括：
间歇式直接光控：国外公司在光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程中的产品进行直接监控。与间接光学控制和晶体控制系统相比，间歇直接光学控制系统有利于减少实际产品上的膜厚分布误差，并能进一步提高产品成品率，减少工艺调试时间，以及降低总体成本。
渐变折射率结构薄膜技术与装备，在大量研究工作表明，无界面薄膜结构和多折射率薄膜结构通过加强薄膜厚度方向折射率分布的调制，消除薄膜界面特性，消除界面效应，采用遮挡发，制造膜层厚度不一，利用光的折射效果，来实现渐变形成。如界面处的电磁波吸收中心和散射密度高于薄膜内部，还增加了薄膜的机械稳定性，可以设计出非常复杂的光谱特性，从而达到渐变的效果。
中国的光学和光电产业在扩容和技术更新的过程中，对光学镀膜技术依赖性逐渐加强，对光学真空镀膜机需求也逐渐加大。在相关零部件的研发过程中，及时的技术创新和相应的设备支持也是技术创新的基石，是整个行业可持续发展的基本策略。
