提升工件优良率，工件清洗环节必少不了，传统都是用超声波清洗，需经过酸洗、碱洗、漂洗等等环节，最后还要烘干。清洗的目的，主要是为了清除表面的污渍、油渍、灰尘等，让工件露出本底基材，经过真空镀膜机腔体镀膜后，膜层直接和本地基材接触，直接提高了基材和膜层的附着力、光洁度以及膜层的致密性。
然而镀制精密工件膜层，只通过超声波和酸碱漂洗，远远是不够的，为了膜层的附着力更强，光洁度更好，膜层更致密，后期采用了在真空镀膜机腔体里面增加离子源来做前期清洗环节。
真空镀膜机等离子清洗是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。通过化学或物理作用对工件表面进行处理，实现分子水平的污染物去除，从而提高工件表面活性。被清除的污染物可能有有机物、环氧树脂、光刻胶、氧化物、微颗粒污染物等，所以等离子清洗是一种高精密清洗。对应不同的污染物，应采用不同的清洗工艺。一般来说，根据选择的工艺气体不同，等离子清洗分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。
一、化学清洗:
表面反应以化学反应为主的等离子体清洗，又称 PE。
例 1：O2＋e－→ 2O※ +e－O※＋有机物→CO2+H2O
从反应式可见，氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的 H2O 和 CO2。
二、物理清洗：
表面反应以物理反应为主的等离子体清洗，也叫溅射腐蚀（SPE）。
例：Ar＋e-→Ar++2e-Ar++沾污→挥发性沾污
Ar+在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能，然后轰击在放在负电极上的被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、同时进行表面能活化。表面反应中物理反应与化学反应均起重要作用。
