电阻蒸发真空镀膜设备镀膜技术，是日常最为普遍，也最为简单的镀膜技术，如镀AL，氟化镁，硫化锌等材料，膜层要求不高，都采用电阻蒸发真空镀膜设备镀制，因其设备价格便宜，产能高，效率快，工艺简单，因此类型设备应用非常普遍，也广受欢迎，下面汇成真空小编为大家详细介绍一下电阻蒸发真空镀膜机镀膜技术，希望能帮助到大家：
电阻蒸发真空镀膜设备主要由真空室和抽真空系统组成，真空室内有蒸发源(即蒸发加热器)、基片及基片架、基片加热器、排气系统等。将镀膜材料置于真空室内的蒸发源中，在高真空条件下，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸气分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸以后，膜材蒸气的原子和分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的碰撞与阻碍，可直接到达被镀的基片表面上，由于基片温度较低，膜材蒸气粒子凝结其上而成膜。
为了提高蒸发分子与基片的附着力，可以对基片进行适当的加热或离子清洗使其活化。真空蒸发镀膜从物料蒸发、运输到沉积成膜，经历的物理过程如下:
(1)利用各种方式将其他形式的能量转换成热能，加热膜材使之蒸发或升华，成为具有一定能量(0.1~0.3eV)的气态粒子(原子、分子或原子团):
(2)气态粒子离开膜材表面，以相当的运动速度基本上无碰撞的直线输运到基片表面;
(3)到达基片表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜;
(4)组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。
电阻加热蒸发电阻加热蒸发方式是最简单也最常用加热方法，一般适用于熔点低于1500℃的镀膜材料，通常将线状或片状的高熔点金属(W、Mo、Ti、Ta、氨化硼等)做成适当形状的蒸发源，装上蒸镀材料，通过电流的焦耳热使镀料熔化、蒸发或者升华，蒸发源的形状主要有多股线螺旋形、U形、正弦波形、薄板形、舟形、圆锥筐形等。同时，该方法要求蒸发源材料具有熔点高:饱和蒸气压低:化学性能稳定，在高温下不应与镀膜材料发生化学反应:具有良好的耐热性，功率密度变化小等特点，采用大电流通过蒸发源使之发热，对膜材直接加热蒸发,或把膜材放入石墨及某些耐高温的金属氧化物(如A202，BO)等材料制成的坩埚中进行间接加热蒸发。
电阻
蒸发真空镀膜设备镀制膜层具有局限性，难熔金属具有低的蒸气压，难以制成薄膜:有此元素容易和加热丝形成合金:不易得到成分均匀的合金膜。由于电阻加热蒸发方式结构简单、价格低廉、易于操作，因而是一种应用很普遍的蒸发方式。
