PVD真空镀膜设备镀膜技术是在真空腔体中将钛、金、银、石墨、水晶等金属或非金属、化合物、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上沉积一层薄薄膜层表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，PVD有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀，颜色靓丽，改变其功能性能等。
PVD技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术）、溅射镀膜（包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术），这些方法统称物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），简称为PVD。行业内通常所说的“IP”（ion plating）离子镀膜，是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。
PVD真空镀膜设备又分很多种类，常见的有装饰真空镀膜设备、功能性真空镀膜设备、汽车零部件真空镀膜设备、连续式真空镀膜设备、卷绕真空镀膜设备，设备所投入使用领域不一样，所都镀制的膜层效果不一样，选择的真空镀膜设备类型不一样。目前市场装饰真空镀膜设备占比最高，但是也是市场最常规的镀膜设备。近几年，随着汽车新能源的发展，市场上目前相对较热门的设备，数复合集流体复合铜箔镀膜设备和双极板真空镀膜设备，技术工艺要求较高，较严格，成本也相对来说较高。
