真空镀膜设备镀膜技术有很多种，简单地来说就是在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成各种客户所需要的镀膜层。日常最长见的为真空蒸镀技术、溅射镀膜技术、离子镀膜技术等，下面汇成真空小编为大家详细介绍一下，希望能帮助到大家：
真空蒸镀：其原理是在真空条件下，用蒸发器加热膜料，使其气化或升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸发同时也分电子束蒸发和电阻蒸发、感应蒸发等
溅射镀膜：是真空条件下，在阴极接上高压电，激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极靶材，使其射出膜料粒子，并沉积到基片上形成膜层。
离子镀膜：离子镀膜通常指在镀膜过程中会产生大量离子的镀膜方法。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，膜层强度和结合力非常强。离子镀膜镀制高精密的膜层时，可以加过滤掉大颗粒的离子，这样能达到高结构，高致密性的膜层。
日常最常见的就是这三种真空镀膜设备镀膜技术，具体选择那一种，要看是镀什么膜层，是镀什么工件等。
