很多镀膜加工厂家咨询我们，膜层均匀性如何才能控制好，为什么镀出的膜层有不良品，如何去把控这些环节。其实这些问题归总接地还是pvd设备膜厚测量以及监控方面的问题，这两方面问题，在镀膜过程中是避免不了，也是必须要进行的，这样才能确保能顺利的镀出优质的镀膜产品。那么具体如何去真空镀膜机膜后测量及监控呢？
最直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM)，这种仪器可以直接驱动蒸发源，通过PID控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的精确度是有限的，部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。此外虽然QCM在较低温度下非常稳定，但温度较高时，它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。
光学监控是高精密镀膜的的首选监控方式，这是因为它可以更精确地控制膜层厚度(如果运用得当)。精确度的改进源于很多因素,但最根本的原因是对光学厚度的监控。OPTIMALSWA-I-05单波长光学监控系统，是采用间接测控，结合汪博士开发的先进光学监控软件，有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少终极误差，提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。
pvd设备膜厚测量及监控监控环节必不可少，也是镀膜加工厂家要高度重视的问题，以为一段镀出不良产品，都会或多或少造成不少的损失，小则几万元，大则几十万，几百元。
