大家都知道光学真空镀膜设备镀膜是跟光的折射和光控是有很大关系的，我们日常过程中经常听到有人说玻璃透过率、折射率等等相关的话题，都是光关系，也跟光学真空镀膜设备密不可分的。而真空镀膜设备涉及的领域，却是很广泛，光学真空镀膜设备也是真空镀膜设备中的一种，如卷绕真空镀膜设备、装饰真空镀膜设备、汽配真空镀膜设备等等，都是属于真空镀膜设备。很多人好奇两者镀膜原理上有什么区别，今天汇成真空小编就为大家详细介绍一下真空镀膜设备和光学镀膜设备镀膜原理上的区别，希望能帮助到大家：
真空镀膜设备真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。
光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。
随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。
光学真空镀膜设备和真空镀膜设备，虽然都属于真空领域。但是镀膜原理上，还是有很大的区别，因为应用领域不一样，想要的效果不一样，镀膜原理自然是有差别。
