真空镀膜设备硬质涂层常应用于：科研、半导体、工具、刀具、模具、零部件、医疗器械、光学、新能源等行业。可镀制AlTiN、TiAlN、AlTiXN、AlCrN、AlCrXN、TiSiN、CrN、TiN等氮化物涂层，Ta-c、类石墨、Cr+a-c、Cr+a-c:H、W+a-c、W+a-c:H等碳基，Cr+a-c:H、CrN+a-c:H等PECVD涂层。

       真空镀膜设备硬质涂层的发展、现状及未来，真空镀膜设备硬质涂层的市场随着加工技术的更高要求而不断扩大，在国内也具有越来越大的市场。硬质涂层在工具上的应用按照市场占有量的划分主要为：刀具涂层70％，模具涂层25％，零部件涂层5％。真空镀膜机硬质涂层技术主要有阴极电弧离子镀技术和磁控溅射技术。真空镀膜设备电弧技术和磁控溅射技术的区别主要为：电弧技术可以获得接近90％的离化率和较快的沉积速率，但存在液滴的问题；真空镀膜机磁控溅射技术可以获得平整的表面，但离化率和沉积速率都相对较低。
       目前，两种技术都在不断向前发展。真空镀膜色环保磁控溅射技术也在不断进展，闭合磁场非平衡磁控溅射技术能够大幅度提高离化率，成为磁控溅射膜层质量提升的关键。随着中频孪生磁控技术和非平衡磁控溅射技术的结合，真空镀膜设备磁控溅射技术已经能够获得与电弧技术相当的优质膜层。
       未来随着工业需求的不断增加，真空镀膜设备光学板材溅射镀膜的优点,对硬质涂层的要求也将愈发严格。未来的涂层将有两大趋势：超硬涂层和低摩擦系数涂层。
       1.超硬涂层 超硬涂层一般是指维氏硬度在40GPa以上的硬质涂层。主要有：1)金刚石涂层(硬度为50-100GPa，与晶体取向有关)
       2)立方氮化硼(e-BN)涂层(硬度为50-80GPa)
       3)类金刚石涂层(DLC，因工艺不同硬度可在10GPa-60GPa的宽广范围内变动)
       4)碳氮涂层(CNx，硬度可达15GPa-50GPa)
       5)纳米复合涂层和纳米多层涂层(TiN/NbN纳米多层涂层硬度为51GPa，TiYN/VN纳米层涂层硬度高达78GPa)
       2.低摩擦系数涂层 低摩擦系数涂层主要包括钼基涂层(二硫化钼)，和碳基涂层(金刚石、类金刚石、碳氮涂层等)，摩擦系数均可达到0.1以下。