真空镀膜机镀制薄膜流程步骤多而复杂，镀膜过程中，受很多参数影响，具体有哪些因素影响呢？影响真空镀膜机镀制薄膜的参数主要有：沉积速率、离子轰击、真空度、基片材料、膜层材料、材料温度、蒸发方式、后期的处理等。
1.真空度的影响：
真空度对薄膜性能的影响是非常大的，有些材料对真空度的要求高，有些材料对真空度的需求低，真空度越高受周围气体化学反应影响越小。真空腔承载真空环境必须保证剩余气体在蒸汽分子从蒸发源到基片的过程中不产生碰撞，如果真空度低，蒸汽分子与气体碰撞的几率就高，蒸汽分子的动能减少可能无力与基片吸附，导致沉积的膜层牢固性差，真空室的设计非常重要，绝对不能产生漏气。
2.沉积速率的影响：
沉积速率是以单位时间内被镀制在基片表面上形成的膜层厚度的表示，单位为nm/s或者A/s，它是表示沉积快慢的参考数据。在同一真空度内，沉积速率不同薄膜的折射率也不同，对于沉积速率的提高可以一定程度上改善光学薄膜的性能和提高膜层的附着力。
3.离子轰击的影响：
镀膜前的离子轰击一定程度上起到提高附着力和清洁基片的作用，拿蒸发镀膜来说，离子轰击一般可以增进化学反应，提高膜层的聚集密度，从而使氧化物膜的透过率增加、提高反射率、改善硬度和强度。
4.基片温度的影响：
基片温度主要影响着膜层的机构和晶体的生长，凝聚系数以及光学性能，基片的高温度有助于提高折射率，还可以促进沉积的膜料分子与剩余气体分子的化学反应。需要注意的是，不是每一种基片都能在高温度下得到最佳的效果，有可能造成膜层的质变。
在真空
镀膜机镀制薄膜的过程中，薄膜性能的影响当然不单是受到上述工艺参数的影响，还会有许多细节的参数工艺影响到薄膜最终的性能和效果，在每一个环节做好才能更好的提高膜层附着力，这是镀制工作中要注意的问题，镀膜过程中，无论哪个环节出现了问题，都会影响镀出优质产品的概率，因此每个环节都要格外关注，至关重要。
