真空镀膜设备应用的行业很多，自然镀膜工艺也是各不相同，我们日常接触最为频繁的有溅镀和离子镀、真空蒸镀，只要对真空镀膜设备有简单接触的工作人员，应该听说过这三种电镀工艺，但是实际上，远远不止这三种，以后可能会有更多问世。下面汇成真空小编为大家介绍一下真空镀膜设备常见的镀膜工艺，希望能帮助到大家
真空电镀是区别于水电镀的一种新技术，它是相对环保电镀技术。
真空电镀工艺包括真空蒸镀，阴极溅镀，离子镀等。
真空蒸镀：
真空蒸镀是在真空条件下将材料加热，将成膜材料置于真空中进行蒸发或者升华，使之在基材表面沉积一层或多层膜的过程。
其原理是将温度达到镀膜材料的蒸发温度，将产生的蒸汽从真空室转移到低温零件上凝结，在真空的环境下不会产生氧化现象，注意的是用于真空蒸镀的材料要考虑到熔点和沸点。
阴极贱镀：
阴极贱镀也叫磁控溅射，通过辉光放电产生的惰性气体等离子体将金属靶材的原子轰出沉积在基材上的过程，阴极贱镀工艺要求有1.3*10-3Pa的真空度。在阴极靶表面形成正交电磁场，贱镀的膜层附着力比真空蒸镀强，是目前真空镀膜技术使用率很高的工艺。
离子镀：
离子镀是在气体离子或物质离子轰击下沉积在基材表面的方法，离子镀是真空镀膜技术的一项新发明，离子镀工艺虽然也是在真空腔内实现，但是镀膜的过程是通过电荷传递的形式，它具有很强的穿透性，可以进入需镀制的基材里面具有相当强的附着力。
真空镀膜设备真空电镀是一种物理方法，镀膜是建立在真空环境的条件下，真空电镀工艺已经是成熟的技术，基本上各行业需要镀膜的产品都可以使用真空镀膜。
