平时对真空行业了解很少的采购人员来说，这方面几乎是一片空白，但是一般采购真空镀膜机，基本上都是镀膜加工厂，因为对真空镀膜设备以及蒸发制膜条件多多少少是有一些了解的，那么真空镀膜机蒸发制膜过程中的蒸发条件具体有哪些呢，下面汇成真空小编为大家详细介绍一下,希望能帮助到大家：
1)真空条件下物质的蒸发特点
膜材加热到一定温度时就会发生汽化现象，即由固相或液相进入到气相中，由于真空条件下物质蒸发比在常压下容易得多，因此所需的蒸发温度将大幅度下降，熔化蒸发过程将大大缩短，真空镀膜设备蒸发效率将明显地提高。以金属铝为例，在一个大气压下，铝必须加热到2400℃才能蒸发，但是如果在10-3Pa的真空条件下只要加热到847℃就可以大量蒸发。
2)膜材的蒸发速率
膜材的蒸发速率是指以蒸汽形式在单位时间内（秒），从单位膜材表面（平方厘米）所蒸发出来的分子数。
3）残余气体对基片的碰撞速率
膜材蒸发后，向基片迁移和淀积过程中也伴随着残余气体分子向基片上不断碰撞。这些残余的气体分子，碰撞基片表面后部分被反射到气态空间，部分被淀积膜层淹埋吸附，这对膜的生成是十分不利的。
4）膜材的凝结速率
膜材经过真空镀膜机加热蒸发后，蒸发粒子在单位时间内，在基片单位面积上的分子数称为膜材的凝结速率。真空镀膜设备凝结速率与蒸发源的发射特性、源与基片的几何形状及源与基片之间的距离（蒸距）有关，所以在设计镀膜室和选择蒸发源时必须密计算，全面衡量。
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真空镀膜机，真空镀膜设备广泛应用于汽车、玻璃、塑胶、电子、钟表、五金等行业，产品广销全球，为客户提供定制化的工艺解决方案和真空镀膜设备。
