真空镀膜机真空蒸发镀膜（简称蒸镀）是PVD技术中发展最早、应用较为广泛的镀膜技术。尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸镀优越，但真空蒸发技术仍有许多优点，如设备与工艺相对比较简单，即可镀制非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等，仍然是当今非常重要的镀膜技术。近年来，由于电子轰击蒸发，高频感应蒸发及激光蒸发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用，使这一技术更趋完善。
将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸时，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的冲击阻碍，可直接到达被镀的基片表面，由于基片温度较低，便凝结其上而成膜，为了提高蒸发分子与基片的附着力，对基片进行适当的加热是必要的。为使蒸发镀膜顺利进行，应具备蒸发过程中的真空条件和制膜过程中的蒸发条件。
蒸发过程中的真空条件:真空镀膜室内蒸汽分子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离（称做蒸距）时，就会获得充分的真空条件。为此，增加残余气体的平均自由程，借以减少蒸汽分子与残余气体分子的碰撞概率，把真空镀膜室抽成高真空是非常必要的。
真空镀膜过程中对真空度的要求并非是越高越好，因为在真空镀膜室内真空度超越10-6Pa时，必须对真空系统烘烤去气才能达到。由于烘烤去气会造成基片的污染，因此在不经过烘烤去气时即可得到10-5Pa的高真空下制膜，其膜的质量不一定比超高真空下所制备的膜的质量差，这一点是值得注意的。因此，在真空蒸发镀膜机中，镀膜室所选用的真空度一般均应高于10-2Pa，低于10-5Pa。
真空蒸发镀膜机是最原始的
真空镀膜机，应用也是最广泛的，市场占比率也是最高，当然随着技术不断的创新和发展，新技术不断的涌出，蒸发镀膜技术和设备成本自然是占比相对来说比较偏低。
