磁控溅射卷绕镀膜技术分直流、中频、射频等方法把各种金属、合金、化合物、陶瓷等材料沉积到柔性基材上，进行单层或多层镀膜。
磁控溅射卷绕镀膜技术分直流,中频,射频等方法把各种金属,合金,化合物,陶瓷等材料沉积到柔性基材上,进行单层或多层镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备与蒸发卷绕镀膜设备相比，生产效率较低、设备成本高，这是由镀膜原理所决定的。但磁控溅射具有镀膜温度低、可任意位置安放多个靶连续镀多层膜、镀膜材料适应范围宽、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点。
可用磁控溅射方法在柔性基材上镀制各种介质膜，如SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5等；金属和合金膜如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、SUS、TiAl等；用ITO、AZO等陶瓷靶可镀透明导电膜；用多层光学膜结构镀AR减反膜、HR高反膜、AR+ITO高透导电膜、低辐射Low-E和阳光控制膜等。主要用于汽车、火车、轮船等前挡及玻璃门窗的贴膜，建筑门窗及幕墙贴膜，防静电和电磁贴膜，装饰贴膜和包装膜、太阳能暖房贴膜，电加热器膜，防霜雾透明膜，FPD平板显示用透明电极膜，在金属带上镀光学多层膜做薄膜太阳能电池等。如ITO透明导电膜可以作为冷发光材料，在棉布表面镀上SiO2可制成防电磁辐射的防护服，镀Ni的海绵绕制后可做镍氢电池，镀上多种材料的基材可做电子书、柔性显示器件等。
磁控溅射卷绕镀膜技术由于覆盖领域广泛，虽然比蒸发卷绕镀膜技术起步晚，但发展极为迅速，在未来的高科技领域和环保节能领域将大有可为。
