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pvd真空镀膜机镀膜技术，在日常生活中，无处不在，人人一部的手机里面大多数零部件都镀上了一层颜色膜层或功能性膜层，来满足人民日常生活水平。像我们每天用的餐具，刀具，五金装饰品等等，都有经过pvd镀上了一层薄薄的膜层。那么Pvd镀膜是如何实现这些技术的呢，有哪些镀膜方法？下面汇成真空小编为大家详细介绍一下，希望能帮助到大家：
PVD镀膜机技术基本方法有真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀），以上是最常用的pvd镀膜技术
特征：真空环境；蒸发源材料需加热熔化；基底材料也在较高温度中；用磁场控制蒸发的气体，从而控制生成镀膜的厚度。
特征：在真空室内充入放电所需要的惰性气体(如氩气)，在高压电场作用下气体分子因电离而产生大量正离子。带电离子被强电场加速，便形成高能量的离子流轰击蒸发源材料(称为靶)。在离子轰击下，蒸发源材料的原子将离开固体表面，以高速度溅射到基片上并沉积成薄膜。
RF溅射使用的频率约为13.56MHz，它不需要热阴极，能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。RF溅射不仅可以沉积金属膜，而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜，因而使用范围较广。
阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积，该技术材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。
过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤系统，可将弧源产生的等离子体中的宏观大颗粒过滤掉， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。
