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真空镀膜机镀制膜层基本流程介绍

2022-09-15

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      真空镀膜机给工件镀上一层薄膜,是需要一个过程,就跟我们工作一样,是有先后顺序, 先做什么,后做什么,是有大概流程的。下面汇成真空小编为大家详细介绍一下真空镀膜机镀制膜层流程,让大家对真空镀膜流程有一个大概的认识:


真空镀膜机


      1. 清洗工件:接通直流电源,氩气进行辉光放电为氩离子,氩离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;
      2. 镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。
      3. 镀料离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后,高速冲向工件;
      4. 镀料原子、分子或离子在基体上沉积:工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
      离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能,高速轰击工件时,不但沉积速度快,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特别牢。
      以上便是真空镀膜机镀膜的大概流程,蒸发镀膜技术、磁控溅射镀膜技术、多弧离子镀膜技术几乎流程都类似。