高精密电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下，采用电子书轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属，氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等，可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜，可镀各种高熔点材料。
在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光学多层薄膜的精密真空镀膜机；将满足客户需求的多种元件组合在一起，可以形成品质更加优良的薄膜；基片伞架采用中心旋转方式(公转)，减少产生振动和颗粒，使基片能够稳定旋转。
采用坩埚上没有极片的电子束加热方式作为蒸发源，可以稳定地形成多层膜；采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成高精度且稳定的光学多层膜；可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。
使用均匀分布的高离子电流密度的离子源，搭载双电子枪，多点和环型坩埚可镀100层以上，利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程，工件架可选择钟罩式或行星式。
AR 膜（基材玻璃透过率＞91.5%）：1、420-680nm波段，单面平均透过率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；2、双面平均透过率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；
AS/AF膜测试标准：1、初始接触角范围为 115±5°；2、钢丝绒耐摩擦测试标准：用 0000#钢丝绒，面积为 10*10mm,行程 40 次/分，负载1Kg，5000 次往返摩擦后，接触角大于 100°；3、 橡皮擦测试标准： 直径 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，负载1Kg， 2500 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
备注：测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃，表面光洁。
高精密电子束蒸发镀膜机优势有三点：提高沉积速率以实现更高产量，在半导体，光电和光子学领域实现高精度工艺，坚固耐用且易于维护
