7° tilted vertical inline coating system 斜7°立式连续镀膜生产线

该系统可用于光学薄膜叠层以及要求低颗粒缺陷的金属溅射应用。通过可旋转靶材技术实现高靶材利用率，完全无接触的磁悬浮工件架传输系统实现最小的颗粒缺陷，采用折返室的设计理念将占地面积降到最低，将基板返回真空室。

倾斜7度角进行镀膜与工件架传送，因无挟持可实现基板全覆盖镀膜。

工件架顶部磁导向,底部摩擦稳定传送，磁流体密封。

缩短工件架间距，增加靶材镀膜利用效率。