Diamond like carbon (DLC) coating equipment 类金刚石DLC涂层设备
该系列设备具备多种DLC涂层沉积技术，模块化的涂层设备设计，可根据客产品应用需求，单独或组合过滤阴极电弧，闭合场磁控溅射，PACVD和离子源技术模块于DLC沉积设备，适用于多种科学研究，产品开发和批量生产的要求。技术先进，操作方便，能量消耗少，绿色环保等特点，广泛应用于机械，电子，光学，能源，装饰等领域。
HCVAC开发的DLC涂层，具有良好的附着性，高的硬度和耐磨性，低的摩擦系数，低的表面粗糙度，能在多种金属与合金工模具或零件表面沉积DLC涂层。独特的低温涂层技术，还能适用于在塑胶等不耐高温的材料上沉积DLC涂层。
DLC涂层具有较高的硬度、优异的减摩耐磨性能、高热导率、低介 电常数、宽带隙、良好的光学透过性以及优异的化学惰性和生物兼容性等，在航空航天、机械、电子、光学、装饰外观保护、生物医学等领域有着广阔的应用前景。DLC涂层适合于磨损和滑动的环境下，在没有任何润滑介质的条件下，可以降低摩擦损耗，可以用于汽车发动机零部件（燃油喷射系统、动力传动系统）、轴承、滚轮、纺织机械、航空航天等众多领域。
DLC涂层设备制备的DLC涂层（类金刚石涂层），具备质量稳定，与基体结合力好，耐磨性好，摩擦系数低，耐腐蚀性好等综合优良性能。广泛应用于发动机零部件，有色金属切削刀具，有色金属及不锈钢等成型冲压模具，滑动密封部件，半导体行业模具，注塑模具，纺织行业等。
针对不同的行业，并根据客户不同的要求及材料，我们运用不同的工艺及制备方法，设计出相适应的DLC涂层设备，以满足客户的需要。
DLC涂层特点：
1、是一个很好的自润滑塑料加工应用涂层；
2、涂层特别致密，不起化学作用，沉积膜是1～3μm，硬度是2000HV～2500HV；
3、具有优异的摩擦磨损性能，耐高温350℃，并具有很高的耐粘接剂和磨粒磨损；
4、快速、可预见的脱模大大提高质量和生产率，是PECVD涂层塑料加工的首选。
| 主要模块 | |
| Arc | HiPIMS |
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创新的APA蒸发器技术（先进的等离子辅助）基于阴极真空电弧，为新的层结构提供了多种开发可能性。 优势： ●靶材使用率高，降低靶材成本 ●沉积率高 ●磁场可调节 ●靶材更换时间短 ●等离子体密度高 ●完美的涂层结合力 |
HiPIMS代表高功率脉冲磁控溅射。 优势： ●离化率高（类似于电弧法） ●高功率密度，从 100 到1000 W/cm2 ●等离子密度非常高 ●可以通过等离子参数设置来调节层结构 ●涂层非常光滑 ●完美的涂层结合力 ●在低基材温度下沉积致密的涂层 |
| 其他模块 | |
| 溅射 | 氮化 |
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在溅射工艺中，通过高能离子（Ar）轰击靶材，分离成原子进而转化成气相。通过结合溅射材料和其他气体，将涂层沉积在基材上。 优势： ●可以溅射多种材料 ●多种工艺变量可用 ●光滑的涂层 ●结合功率刻蚀工艺AEGD获得好的涂层结合力 |
使用氮化模块，可在同一个系统、同一个批次，在PVD和/或PACVD涂层工艺之前进行等离子氮化工艺。由此生成一个硬化层，为后续的PVD/PACVD涂层提供完美的支撑。 优势： ●优化工具和零部件属性 ●替代昂贵的基材 ●显著延长寿命 ●可以应用所有PVD涂层 |
| DLC | ta-C |
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DLC就是类金刚石涂层，指一系列具有超低摩擦系数的非晶碳涂层。使用DLC模块，可以通过使用PVD和/或PACVD工艺来生成不同的DLC涂层。标准DLC涂层包括不含金属或含金属的碳基涂层。 优势： ●完美的涂层结合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系数 ●光滑的涂层 |
ta-C 就是不含氢的四面体非晶碳，指的是一组极硬、低摩擦的非晶碳涂层。使用ta-C模块可以生产不同的ta-C涂层。 优势： ●适用于比DLC更高的温度环境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂层结合力 ●光滑的涂层 |
