CVD diamond growing system CVD人造钻石培育系统
CVD培育钻石是一种由直径10到30纳米钻石晶体合成的多结晶钻石，它的化学成分为碳，运用先进的设备模拟大自然中钻石生长环境，通过化学气象沉积技术（CVD）栽种而成。
该系统采用微波等离子体CVD技术，使天然气和氢气加热后，在压力室内形成碳等离子体，该等离子体不断沉积在压力室底部的碳底层上，逐渐积聚和硬化，形成钻石薄片。
通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
HCVAC等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团，减少因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化，确保单晶生长的持续性，为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。
应用范围
高品质单晶金刚石、多晶金刚石的批量生长（大尺寸宝石级单晶钻石、高取向度金刚石晶体、纳米结晶金刚石、碳纳米管/类金刚石碳（DLC））。
同时适用于其它硬质材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。
多种薄膜的CVD制备、材料表面处理和改性、低温氧化物的生长等。
适合光学、电子、工具级金刚石膜或单晶、石墨烯等的产业化生产，材质表面处理、低温氧化物的生长等。
